Väitös kvanttikemian alalta, DI Timo Weckman
Teoreettinen monimittakaavamallinnus Al₂O₃ ja ZnO ohutkalvojen atomikerroskasvatuksesta.
14.09.2018 / 12:00
DI Timo Weckman väittelee perjantaina 14.9.2018 klo 12 Aalto-yliopiston kemian tekniikan korkeakoulussa, kemian ja materiaalitieteen laitoksella, salissa Ke1, Kemistintie 1, Espoo. Väitöskirjan nimi on "First Principles Multiscale Modelling on Atomic Layer Deposition of Al₂O₃ and ZnO”.
Vastaväittäjä: Professori Karoliina Honkala, Jyväskylän yliopisto
Valvoja: Professori Kari Laasonen, Aalto-yliopiston kemian tekniikan korkeakoulu, kemian ja materiaalitieteen laitos